2017-04-25
根据《路透社》的报导，日本光学大厂尼康（Nikon）于24日表示，已对荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML Holding NV）和合作伙伴卡尔·蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律诉讼，并表示ASML及Carl Zeiss两家公司在未经Nikon的许可下将其微影（lithography）技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。
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