2025-09-03
2025年9月3日，SK海力士宣布，已将业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV*）引进韩国利川M16工厂，并举行了设备入厂庆祝仪式...
2025-07-24
美国半导体初创公司xLight宣布，已完成一轮超额认购的4000万美元B轮股权融资，旨在打造一款新型激光器的首款原型机...
2025-02-27
2月25日，美光（Micron）正式推出基于全新1γ（1-gamma）制程技术的16Gb DDR5存储器，这是美光首次采用极紫外光（EUV）曝光技术。新存储器不...
2025-02-26
据路透社报道，半导体大厂英特尔近日表示，半导体设备大厂阿斯麦（ASML）的首批两台尖端高数值孔径（High NA）光刻机已在其工厂正式投入生产，且早期...
2024-11-05
日经亚洲的报导，全球最大半导体制造商台积电(TSMC)年底前会收到ASML最先进光刻机。高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机每....
2024-11-04
近日，美国商务部和国家半导体技术中心(NSTC)的运营商Natcast宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术中心建设首个基于美国...
2024-10-25
近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研发最新....
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